導讀:
 

　　2017年3月28日–3月29日，紐邁將攜新品亮相2017(第三屆)石墨烯終端應(yīng)用技術(shù)大會。
 

　　時間： 2017年3月28日–3月29日
 

　　地點： 上海虹橋西郊假日酒店三樓
 

　　展位號： 4號展位
 

　　紐邁風采
 

　　本次展會，紐邁將帶來諸如：核磁共振顆粒表面特性分析儀等分析儀器相關(guān)資料，石墨烯比表面積、團聚性測試等應(yīng)用解決方案。此外，光臨紐邁展位即可免費獲得各種精美禮品！
 

　　看點揭秘
 

　　核磁共振顆粒表面特性分析儀
 

 

　　懸浮液體系顆粒比表面積;粒子團聚性、穩(wěn)定性;顆粒與介質(zhì)之間親和性;粉體質(zhì)量控制、分散工藝研究
 

　　性能特點
 

　　產(chǎn)品功能：
 

　　性能特點
 

　　1 、簡單快速，3min以內(nèi)完成檢測
 

　　2、樣品無須稀釋，無需引入外部試劑
 

　　3、測試結(jié)果為濕式下比表面積，可靠真實且穩(wěn)定性高、重復性好
 

　　4、適用性廣，可測量任何大小、任何形狀的顆粒
 

　　紐邁在會議現(xiàn)場設(shè)有展位，歡迎蒞臨會場4號展臺近距離與我們交流，感受新技術(shù)給科研帶來的不一樣的創(chuàng)新科研方案！ 低場核磁共振技術(shù)的應(yīng)用遠遠大于以上所列，如果您對以上應(yīng)用或產(chǎn)品感興趣或想要了解更多，您可以直接給小編留言，小編期待您的參與